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供应聚氨酯碳纳米管研磨分散机厂家

聚氨酯碳纳米管研磨分散机、碳纳米管改进型胶体磨、聚氨酯浆料高速研磨机、碳纳米管浆料高剪切研磨分散机、碳纳米管chao高速研磨机、19000转碳管高速研磨分散机、德国移

  • 产品单价:面议
  • 品牌名称:

  • 产地:

    上海

  • 产品类别:

    分散机

  • 有效期:

    长期有效

  • 发布时间:

    2018-11-16 21:01

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产品参数

起订:1 供货总量:569
发货期限:自买家付款之日起 1 天内发货 所在地:上海
有效期至:长期有效 品牌:

详情介绍



聚氨酯碳纳米管研磨分散机、碳纳米管改进型胶体磨、聚氨酯浆料高速研磨机、碳纳米管浆料高剪切研磨分散机、碳纳米管chao高速研磨机、19000转碳管高速研磨分散机、德国移动式研磨机

IKN研磨分散机,是IKN公司yan发出来的xin品,是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。物料既可以有xiao分散,又可以防止团聚。

三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到geng好的分散湿磨效果。

如何实现高质量碳纳米管的连续批量工业化生产?

碳纳米管制备现状大致是:多壁碳纳米管能较大量生产,单壁碳纳米管多数处于实验室研制阶段,某些制备方法得到的碳纳米管生长机理还不ming确,对碳纳米管的结构(管径、管长、螺旋度、壁厚、管表面石墨碳的结晶度等)还不能做到任意调节和控制,影响碳纳米管的产量、质量及产率的因素太多(如催化剂颗粒的大小、碳源的种类、温度、混合气体的种类及比例等),使制得的碳纳米管都存在杂质高、产率低等缺点,还没有*的纯化碳纳米管的方法。

如何更深入研究碳纳米管实际应用问题?

例如,在常温常压下如何解析氢气及加快其储氢放氢速度。如何提高碳纳米管吸附容量的稳定性和吸附压力的敏感性。再如,怎样才能制备出性能更为you异或能预期其性能的碳纳米管复合材料。要解决这些共同难题,需要研jiu人员们一方面tu破技术guang键,进一步研究开发新的、成本低廉、适合于大规模生产碳纳米管的技术,通过建模和模拟来加强生长现象与机理研究;另一方面继续深入研究其应用,把碳纳米管与各个领域结合起来,充分发挥其自身you异的特性。

IKN聚氨酯碳纳米管研磨分散机结构设计

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无xian制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是*转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验*工作头来man足一个具体的应用。

技术参数:

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN


CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15


CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32


CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65


CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65


CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125


CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150



流量qu决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较:

一、转速和剪切速率:

IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

国nei胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的zhong要因素,相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距:

IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,chao高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。

间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工

国nei胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

三、机械密封:

IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时bu停运转

国nei胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

四、清洗:

IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有xiao保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计wu死角,立式结构符合流体原理,清洗更简便

国nei胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,

通常情况,需要拆卸机器进行清洗

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