抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可！应用LED行业目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度，普通磨料难以对其进行加工！在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光!随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增.

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　　化合物（compound）主要分为有机化合物和无机化合物.有机化合物含有碳氢化合物(或叫做烃,hydrocarbon)，如甲烷(methane,CH₄)，分为：糖类、核酸、脂质和蛋白质。无机化合物不含碳氢化合物，如硫酸铅(lead(II)sulphate,PbSO4)，分为：酸、碱、盐和氧化物离子化合物，一般含有金属元素，例如氧化钠共价化合物，例如水。抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类.

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　　应用领域主要集中在led蓝宝石基板，蓝宝石窗口，手机金属外壳的精密抛光，玻璃盖抛光和半导体材料抛光等方面。抛光蜡/浆/膏主要包含抛光蜡、抛光浆、抛光膏，液态抛光蜡、液态抛光浆、液态抛光膏、精抛蜡、粗抛蜡，用于表面抛光和镜面抛光.深圳市朗纳研磨材料有限公司生产的抛光蜡/浆/膏特征:朗纳抛光蜡/浆/膏分为粗抛、精抛2个种类，分别运用在不同制程.朗纳抛光蜡/浆/膏对抛光轮有冷却效果，可避免抛光过程温度过高产生起火的风险，并能增加抛光轮的使用寿命.

　　氧化铈抛光液氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点!适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光!氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。

　　抛光蜡/浆/膏是水基配方，工件抛光后容易清洗.抛光蜡/浆/膏具有较高抛光效率，精抛蜡能使抛光产品表面产生高光泽及良好耐久性！抛光蜡/浆/膏满足ROHS法规!磨料种类:氧化铝、碳化硅、金刚石等。D50规格:0!5~30微米!固含量:0.1~40%。pH值:7~10.10！包装:1公斤/瓶；10、20、25公斤/桶！深圳市朗纳研磨材料有限公司生产的抛光蜡/浆/膏出光快,镜面光亮度好,能产生保护膜,易于抛光件的清洗，深圳市朗纳研磨材料有限公司是一家生产并销售抛光膏,抛光蜡,研磨光亮剂,干湿滚光油,抛光液,抛光粉，悬浮液等抛光清洗剂光亮剂的生产厂家。