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CRESTEC电子束光刻曝光机_厂家直销仪器仪表-欣源科技(北京)有限公司

  • 产品名:电子束光刻EBL
  • 产品价格:7000000.00
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产品说明

  描电镜分辨率:小于2nm主要特点:1!采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2!出色的电子束偏转控制技术3!采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率(addresssize)可达0!0012nm4。采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0!01mrad5!应用领域广泛,如微纳器件加工,Si/GaAs兼容工艺,研究用掩膜制造,纳米加工(例如单电子器件、量子器件制作等),高频电子器件中的混合光刻(Mix&Match),图形线宽和图形位移测量等。

  ==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。

   关于电子束,作为一家主营产品为电子束光刻EBL的厂家,欣源科技(北京)有限公司在其他未分类这个行业中都享负盛名,在业界中也有一定的地位。

  型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB!其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm,小束斑直径2nm,套刻精度20nm(mean2σ),拼接精度20nm(mean2σ)!欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统,又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等!

正宗CRESTEC电子束光刻曝光机

  电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一.日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统.

CRESTEC电子束光刻曝光机

   如果您看到这段话,说明您对我们电子束光刻EBL感兴趣,不要犹豫,给我们一个机会,也给自己一个机会。 拿起手机来拨打我们的电话。少鹏等待着您的每一次致电:13701223713 让欣源科技(北京)有限公司为您服务, 我们在北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331这里等您。

我们推荐CRESTEC电子束光刻曝光机

  包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题,敬请电话或邮件垂询!技术参数:1.小线宽:小于10nm(可实现8nm)2!加速电压:5-50kV3。电子束直径:小于2nm4!套刻精度:20nm(mean2σ)5!拼接精度:20nm(mean2σ)6.加工晶圆尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)7!



供应商信息
欣源科技(北京)有限公司
其他专用仪器仪表
公司地址:北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331
企业信息
注册资本:50---100万
注册时间: 2016-07-21
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